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LEICA EM ACE600 高真空鍍膜儀
Leica EM ACE600 是性能優越的多功能高真空薄膜濺鍍系統， 可根據您的 FE-SEM 和 TEM 電顯最高解析度成像需要, 製作非常均勻, 超薄的濺鍍塗層，增加樣品導電性，減少電荷累積的狀況. 極均勻細微性的導電金屬塗層和碳薄膜,可提升觀測奈米等級的表面形貌的解析。
此高真空鍍膜機可以通過以下方法進行配置 : 濺射、碳絲蒸發、碳棒蒸發、電子束蒸發和輝光放電。是用多種濺鍍靶材，使樣品前製備的應用範圍更為廣泛.
可選配Leica EM VCT真空冷凍傳輸系統，提供無污染的低溫掃描電鏡樣本製備與傳輸的理想解決方案。
此高真空鍍膜機可以通過以下方法進行配置 : 濺射、碳絲蒸發、碳棒蒸發、電子束蒸發和輝光放電。是用多種濺鍍靶材，使樣品前製備的應用範圍更為廣泛.
可選配Leica EM VCT真空冷凍傳輸系統，提供無污染的低溫掃描電鏡樣本製備與傳輸的理想解決方案。
電子顯微鏡領域需要對樣本進行鍍膜處理才能改善樣本的成像效果。在無導電性的樣品及導電性較弱的樣品的表面上生成等離子體而形成金屬薄膜, 具體需要採用的鍍膜技術是取決於解析度和應用需求。
蚊子的觸鬚
不同材料的2納米厚的細細微性濺射鍍膜，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率。
通過濺射鍍膜獲得可重現的高品質薄膜
使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統，每次運行均可始終一致地生成高品質的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝，滿足先進鍍膜所需的適當條件並實現可重現的結果。
可進行高達 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調整工藝參數。 根據樣本形態的需要調整樣本距離和鍍膜角度。
SEM 成像前所需的鍍膜處理
導電性很差或不導電的材料樣本（陶瓷、聚合物等）需要碳鍍膜或金屬鍍膜。低溫樣本經過冷凍斷裂後進行金屬鍍膜處理（徠卡EM ACE600冷凍斷裂和徠卡EM VCT500），並在低溫SEM下成像。
TEM 成像前的鍍膜處理
由聚醋酸甲基乙烯脂（formvar）所覆蓋的TEM網格需要進行碳鍍膜處理來獲得導電性能。使用輝光放電處理網格，否則溶液不會粘附並分佈在網格上。冷凍斷裂樣本以低角度進行金屬鍍膜處理，然後再對薄膜進行碳鍍膜處理（Leica EM ACE600冷凍斷裂和徠卡EM VCT500或徠卡EM ACE900），從而生成可在TEM中成像的複型。
超薄碳膜
碳鍍膜在電鏡領域的應用十分廣泛。 它需要具有導電性，但對電子束透明，並且不能具有顆粒結構。
A：常規碳膜（15納米碳）；B：超薄碳膜（3納米）。 輕鬆觀察硒化鎘 (CdSe) 量子片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT，安特衛普大學）採集。 提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh，烏特勒支大學納米材料科學研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）
採用自我調整脈衝方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固並具有導電性，還可以通過烘焙法進一步減少污染。 最終，這類薄膜提供：
對電子的高透明度
足以承受電子轟擊的強度
均勻的厚度，這對於分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關重要
Leica EM ACE600 高真空濺射鍍膜機
Sputter Coater for Carbon, E-Beam and Sputter Coating
使用 EM ACE600 濺射鍍膜機，製備用於電鏡分析的極細微性薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產生值得信賴的可重現結果，提高每次運行的樣本產出。
簡易使用, 高度效率
通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程，EM ACE600 可以讓您簡單可靠地製備常規樣本並節省寶貴的時間。
適合廣泛應用領域的高真空鍍膜系統
EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應用領域。 實現工作流程目標，滿足實驗室需求——可在同一個製備過程中運行兩個不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用於高級冷凍工作流程。
無論您需要……
對扁平或結構化的非導電樣本進行高解析度成像
增強納米級結構（如蛋白質或 DNA 鏈）的對比度
生成透射電鏡 (TEM) 載網的薄而堅固的支撐層，或者
為敏感樣本提供保護層
擴展冷凍應用中的系統
按需配置 EM ACE600
適用於雙源的 ACE600 可配置埠。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發 | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發 | 4- 電子束蒸發
通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一台鍍膜機運行多個制程。 同時，將濺射頭與先進的碳絲蒸發器結合使用或者選用兩個濺射源，可在一次製備過程中完成多層金屬鍍膜。
採用經過優化的帶兩個斜角埠和一個旋轉台的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分佈的薄膜
有穩定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇
為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能
可隨時在現場升級
擴展至冷凍工作流程
在冷凍條件下為樣本鍍膜，全方位提升實驗室電鏡實驗能力。 將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜後，通過 EM VCT500 傳輸系統將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可説明製備樣本用於研究，如在生物樣本原生和水合狀態下的結構分析。
EM ACE600 提供：
用於傳輸冷凍樣本的介面
用於低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍台
基本型斷裂裝置
選擇優化配置
1：電動 3 軸樣本台 | 2：旋轉投影（LARS）樣本台 | 3：旋轉“手動”樣本台 | 4：冷凍台
配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿足實驗室日常工作需求。
有各種樣本支架和樣本台可供選擇，例如帶有多達 3 個電動軸的 3 軸樣本台或專用冷卻台。
可快速更換的樣本台基片使 EM ACE600 成為多功能工具。
旋轉投影—使納米級結構清晰可見
以專用小角度旋轉投影（LARS）設置配置 EM ACE600，可在透射電鏡中對納米級結構（如蛋白質或 DNA 鏈）成像。 EM ACE600 電子束源與電動 LARS 樣本台將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優化的樣本台幾何結構相結合，可實現掠角入射沉積。 用細細微性鉑層以小角度對 DNA 鏈進行投影鍍膜，然後添加碳層穩定脆性結構，以便在 TEM 中進行分析。
出芽酵母（S.cerevisiae，釀酒酵母）的 DNA 複製分叉的 TEM 圖片，使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過小角度旋轉投影方法獲得
Leica EM ACE200
低真空鍍膜機 噴金儀|噴碳儀|蒸鍍儀為SEM和TEM分析生產同質和導電的金屬或碳塗層，之前從未有過比與Leica EM ACE200塗層系統更方便的真空鍍膜機設備了。
配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機後，可以在全自動化系統中獲得可重複的結果，實現了一台真空鍍膜機設備EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統在一台儀器中提供可互換機頭的組合儀錶。
各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉、輝光放電和可交換遮罩共同構成這台低真空鍍膜機。
蚊子的觸鬚
不同材料的2納米厚的細細微性濺射鍍膜，沉積在 SiOx 基材上，200kX 放大倍率。
通過濺射鍍膜獲得可重現的高品質薄膜
使用 EM ACE600 高真空鍍膜系統，每次運行均可始終一致地生成高品質的濺射鍍膜薄膜。 使用收料即鍍的自動化濺射鍍膜工藝，滿足先進鍍膜所需的適當條件並實現可重現的結果。
可進行高達 200kX 的高放大倍率掃描電鏡 (SEM) 分析，具有出色的基礎真空度（<2x10-6 mbar），可為各種不同的濺射靶材仔細均衡調整工藝參數。 根據樣本形態的需要調整樣本距離和鍍膜角度。
SEM 成像前所需的鍍膜處理
導電性很差或不導電的材料樣本（陶瓷、聚合物等）需要碳鍍膜或金屬鍍膜。低溫樣本經過冷凍斷裂後進行金屬鍍膜處理（徠卡EM ACE600冷凍斷裂和徠卡EM VCT500），並在低溫SEM下成像。
TEM 成像前的鍍膜處理
由聚醋酸甲基乙烯脂（formvar）所覆蓋的TEM網格需要進行碳鍍膜處理來獲得導電性能。使用輝光放電處理網格，否則溶液不會粘附並分佈在網格上。冷凍斷裂樣本以低角度進行金屬鍍膜處理，然後再對薄膜進行碳鍍膜處理（Leica EM ACE600冷凍斷裂和徠卡EM VCT500或徠卡EM ACE900），從而生成可在TEM中成像的複型。
超薄碳膜
碳鍍膜在電鏡領域的應用十分廣泛。 它需要具有導電性，但對電子束透明，並且不能具有顆粒結構。
A：常規碳膜（15納米碳）；B：超薄碳膜（3納米）。 輕鬆觀察硒化鎘 (CdSe) 量子片的晶格。 圖片由比利時 Eva Bladt 和 Sara Bals（EMAT，安特衛普大學）採集。 提供方： Frederic Leroux 和 Jan de Weert。 樣本提供方： Daniel Vanmaekelbergh，烏特勒支大學納米材料科學研究所（Debye Institute for Nanomaterials Science, University of Utrecht）
採用自我調整脈衝方法的 EM ACE600 碳絲所生成的薄膜，厚度精確、堅固並具有導電性，還可以通過烘焙法進一步減少污染。 最終，這類薄膜提供：
對電子的高透明度
足以承受電子轟擊的強度
均勻的厚度，這對於分析研究、定量成像或電子斷層掃描至關重要
Leica EM ACE600 高真空濺射鍍膜機
Sputter Coater for Carbon, E-Beam and Sputter Coating
使用 EM ACE600 濺射鍍膜機，製備用於電鏡分析的極細微性薄膜。 精確的自動化碳鍍膜和濺射鍍膜工藝可產生值得信賴的可重現結果，提高每次運行的樣本產出。
簡易使用, 高度效率
通過方便的前門裝載方法、僅需按下一個按鈕即可啟動的收料即鍍式自動化鍍膜過程，EM ACE600 可以讓您簡單可靠地製備常規樣本並節省寶貴的時間。
適合廣泛應用領域的高真空鍍膜系統
EM ACE600 濺射鍍膜機裝有可配置式金屬處理室，十分靈活，適合廣泛的應用領域。 實現工作流程目標，滿足實驗室需求——可在同一個製備過程中運行兩個不同的濺射源，還可配置 EM ACE600 用於高級冷凍工作流程。
無論您需要……
對扁平或結構化的非導電樣本進行高解析度成像
增強納米級結構（如蛋白質或 DNA 鏈）的對比度
生成透射電鏡 (TEM) 載網的薄而堅固的支撐層，或者
為敏感樣本提供保護層
擴展冷凍應用中的系統
按需配置 EM ACE600
適用於雙源的 ACE600 可配置埠。 有以下配置可供選擇： 1- 碳絲蒸發 | 2- 濺射 | 3- 碳棒蒸發 | 4- 電子束蒸發
通過 EM ACE600 的大型可配置金屬處理室，可在不破壞真空的情況下用一台鍍膜機運行多個制程。 同時，將濺射頭與先進的碳絲蒸發器結合使用或者選用兩個濺射源，可在一次製備過程中完成多層金屬鍍膜。
採用經過優化的帶兩個斜角埠和一個旋轉台的雙源方法，可在整個100毫米樣本臺上生成均勻分佈的薄膜
有穩定的碳絲、電子束和濺射鍍膜機濺射源可供選擇
為您的 EM ACE600 裝配輝光放電濺射功能
可隨時在現場升級
擴展至冷凍工作流程
在冷凍條件下為樣本鍍膜，全方位提升實驗室電鏡實驗能力。 將樣本冷凍斷裂和冷凍鍍膜後，通過 EM VCT500 傳輸系統將冷凍樣本傳輸至掃描電鏡，EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機可説明製備樣本用於研究，如在生物樣本原生和水合狀態下的結構分析。
EM ACE600 提供：
用於傳輸冷凍樣本的介面
用於低溫冷凍條件下鍍膜的冷凍台
基本型斷裂裝置
選擇優化配置
1：電動 3 軸樣本台 | 2：旋轉投影（LARS）樣本台 | 3：旋轉“手動”樣本台 | 4：冷凍台
配置 EM ACE600 碳鍍膜和濺射鍍膜機，滿足實驗室日常工作需求。
有各種樣本支架和樣本台可供選擇，例如帶有多達 3 個電動軸的 3 軸樣本台或專用冷卻台。
可快速更換的樣本台基片使 EM ACE600 成為多功能工具。
旋轉投影—使納米級結構清晰可見
以專用小角度旋轉投影（LARS）設置配置 EM ACE600，可在透射電鏡中對納米級結構（如蛋白質或 DNA 鏈）成像。 EM ACE600 電子束源與電動 LARS 樣本台將指令、低熱損傷影響、薄膜沉積與優化的樣本台幾何結構相結合，可實現掠角入射沉積。 用細細微性鉑層以小角度對 DNA 鏈進行投影鍍膜，然後添加碳層穩定脆性結構，以便在 TEM 中進行分析。
出芽酵母（S.cerevisiae，釀酒酵母）的 DNA 複製分叉的 TEM 圖片，使用 EM ACE600 電子束鍍膜機通過小角度旋轉投影方法獲得
Leica EM ACE200
低真空鍍膜機 噴金儀|噴碳儀|蒸鍍儀為SEM和TEM分析生產同質和導電的金屬或碳塗層，之前從未有過比與Leica EM ACE200塗層系統更方便的真空鍍膜機設備了。
配置為濺射鍍膜機或碳絲蒸發鍍膜機後，可以在全自動化系統中獲得可重複的結果，實現了一台真空鍍膜機設備EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統在一台儀器中提供可互換機頭的組合儀錶。
各個選項，如石英晶體測量、行星旋轉、輝光放電和可交換遮罩共同構成這台低真空鍍膜機。